2.5%石墨烯NMP漿料研磨分散機，石墨烯NMP漿料研磨分散機，石墨烯NMP漿料研磨分散機是利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

石墨烯漿料石墨烯漿料分為石墨烯導(dǎo)電漿料、石墨烯散熱涂料、石墨烯電熱涂料等產(chǎn)品，這些產(chǎn)品有高導(dǎo)電性、高導(dǎo)熱性和低成本等優(yōu)勢。可廣泛應(yīng)用到超容、鋰電、光電器... 
        
     

石墨烯NMP漿料就是石墨烯NMP各分散劑研磨分散，濃度可以達到2.5%，zui高可以達到5%。石墨烯NMP漿料研磨分散機 當前主要瓶頸有兩點，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)模化生產(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得*個已不是問題，因為已有多個十噸乃至百噸級產(chǎn)線投產(chǎn)，規(guī)?；此埔延卸狻Ｊ聦嵳媸侨绱藛?？除了產(chǎn)能，我認為更重要的是品質(zhì)，因為原料的品質(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對于實際用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過程可否更綠色？技術(shù)的進步永無止境，可靠的原料永遠是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

對于第二點，我想大家談的比較多了，這是產(chǎn)品出路和價值體現(xiàn)的問題，非常關(guān)鍵，但也很難。作為一種新材料，石墨烯的*年屬于應(yīng)用發(fā)散期，即大家認為石墨烯幾乎是萬能的，然后在不同領(lǐng)域嘗試應(yīng)用，是在做加法。目前，我們已步入應(yīng)用集中期，要開始做減法了，因為大部分潛在應(yīng)用在實踐中被證實并無實用價值，或是技術(shù)上，或是商業(yè)上。在這個階段，產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進行二次開發(fā)，去解決分散和成型等共性技術(shù)難題，讓石墨烯更接“地氣”。zui終交給用戶的，不僅是高品質(zhì)的材料，還有配套的應(yīng)用解決方案，也就是solution。

2.5%石墨烯NMP漿料研磨分散機是研磨機和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SGN石墨烯研磨設(shè)備采用德國較良好的高速研磨分散技術(shù)，通過超高轉(zhuǎn)速（zui高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的石墨烯NMP漿料。

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